Lisans verme

Licensing out

Patent

Patent

2010/10645

2010/10645

Çift taraflı olarak kullanılabilir kumaşların dokunmasına yönelik yöntem ve sistem.

Bu buluş, çalışma süresi başına bir atkı ipliğinin (6) eklendiği, her bir kumaşın, desen veren bir birinci çözgü ipliği (1) ve ikinci çözgü ipliğini (2) içerdiği, birden çok çalışma süresi sonrasında, kumaşın her iki yüzünde bu desen veren çözgü ipliklerinin (1,2) birbiri üzerinden geçerken aynı atkı ipliği (6) üzerinden bağlanmaları amacıyla sırayla argaç ekleme seviyesinin üzerinde ve altında birlikte konumlandıkları; dokuma işlemi esnasında her bir kumaş içerisinde (W1,W2) birinci desen veren çözgü ipliği (1) ve ikinci desen veren çözgü ipliği (2) tarafindan alınan ortak pozisyonun (üst ve alt pozisyon), tercihen argaç ekleme seviyesinin bir yanında birinci düzeyde (POS, 1) birinci çerçeve (1) içinde birinci (1) ve ikinci desen veren çözgü ipliklerinin (2) konumlandırılmasının; ve argaç ekleme seviyesinin diğer yanında seçici bir şeklide farklı ikinci seviyede (POS 2) ve üçüncü seviyede (POS 3) ikinci çerçeve içerisinde konumlandırılmasının, daha önceden belirlenmiş bir motife göre seçime bağlı olarak belirlendiği çift tarafi da kullanılabilir (W1,W2) kumaşların dokunmasına yönelik bir sistem ve yöntemle ilgilidir Bu buluş aynı zamanda böyle bir yöntemle dokunan kumaşlarla (W1,W2) ilgilidir.